新聞資訊

2019-06-24

Stamper110:用于超薄導光板制造的110寸激光直寫光刻設備

110寸激光直寫光刻設備Stamper110采用大功率半導體激光光源,大理石臺面、直線電機系統,提升了新設備的運動控制精度和微結構加工精度,用戶操作界面友好,支持多任務多圖形的套刻。該設備支持現行所有熱壓尺寸的導光板模具制作,提升了蘇州維旺科技在背光行業里的競爭力。

2019-06-24

高性能柔性導電材料等微納增材制造的應用工藝創新

柔性印制電路作為電子互連的基礎材料,是電子產品的最重要的部件之一。目前傳統減成法制造柔性電路工藝復雜、材料利用率低、環境污染嚴重、制造成本高,而且受腐銅側蝕等因素影響,很難制造出線寬小于100μm的柔性電路。

2019-06-13

南通開發區管委會主任沈紅星一行蒞臨蘇大維格集團考察指導

6月9日,南通開發區管委會主任沈紅星一行來到蘇大維格集團,實地參觀了蘇大維格集團展廳及光刻間。蘇大維格集團董事長陳林森參與了接待活動,他從專業角度講解了集團自主研發的多項技術及產品,并用發展的眼光展望了集團未來發展趨勢。

2019-06-13

蘇州市副市長陸春云一行調研蘇大維格集團

6月10日,蘇州市副市長陸春云帶隊來到了蘇大維格集團進行考察指導,陸市長一行參觀了蘇大維格集團展廳及光刻間,聽取了蘇大維格集團董事長陳林森對集團核心技術產品發展情況的匯報。

 

背光模組超薄導光板(膜)

熱壓印工藝將精密模具上微結構復制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學網點結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。通過微結構優化中大尺寸導光板(膜),光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。

 

大尺寸透明導電膜(模組)

“基于柔性納米壓印技術”的新型透明導電膜制造技術,采用micro-metal-mesh(M3)制程工藝,顛覆了精密電路需要蝕刻的傳統工藝,通過納米壓印和增材制造(選擇性生長),獲得大幅面高性能透明導電膜和自支撐透明導電材料

 

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蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司

 

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最新公告

2019-04-08

蘇大維格喜獲2018年度江蘇省科學技術獎一等獎

蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司(以下簡稱“公司”)于近日收到江蘇 省人民政府下發的《省政府關于 2018 年度江蘇省科學技術獎勵的決定》[蘇政發 (2019)22 號],公司獲得 2018 年度江蘇省科學技術獎一等獎。

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2019-01-09

項目介紹:面向微納3D形貌的紫外光刻直寫技術與設備

超薄化、輕量化意味著微納結構的運用。然而,大面積3D微納結構的設計與制造面臨巨大挑戰。首先,大面積3D微納結構涉及海量數據處理與設計。例如,一個超薄導光器件上的微透鏡有數千萬個以上;一件口徑10mm以上的超透鏡,含有數十億到數百億個數據單元;一幅大尺寸透明電路傳感器涉及數十Tb以上的數據量;大口徑薄膜成像透鏡涉及精確3D形貌,數據量會數量級增大;第二,將設計數據轉換成微納結構的途徑與效率。如何將這么龐大數據直接轉換成微納3D結構?不僅需要高速率海量數據并行處理、壓縮、傳輸與轉化技術,還需轉換系統的高精度、可調性與可靠性;第三,先進工藝技術保障。大面積襯底伴隨著不平整度遠大于光刻系統的焦深,因此,必須解決襯底不平整性對微結構分辨率和保真度的影響,解決與成像焦深的矛盾,才能實現高保真3D微結構的高效率制備。

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2019-01-09

項目介紹:光場調控的納米光刻設備NanoCrystal200

研究表明,微納尺度界面與光電子相互作用產生的效應,是設計超材料、超表面的新途徑。微納結構制造技術是實現薄膜成像、透明導電、電磁隱身等技術基礎。由于3D 形貌及其排列精度對光子材料與器件的特性有極其重要的影響,因而,在大面積襯底上實現納米精度的微納結構的高效制備,一直是國際關注的重大共性難題。

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2019-01-09

項目介紹:微納3D打印/光刻技術與設備

在微結構打印方案中,已有的3D打印技術存在諸多限制,未有效解決器件尺寸與精度之間的矛盾、也存在3D結構打印保真度與可靠性不協調的難題。1、利用超快激光的“雙光子效應”的3D打印,分辨率可達0.1微米,但串行寫入模式,效率極低、對環境穩定性要求極高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗時太長,所以,可靠性降低;受制于非線性材料特性和處理工藝,打印一致性很難保障;2、光固化3D打?。⊿LA),利用膠槽供膠與DLP投影光逐層打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面積數毫米。由于累積曝光效應,對膠槽中光固化膠的吸收特性有嚴格要求,易導致打印的結構展寬,尤其對大深寬比微結構的打印,失真嚴重。

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